Intel CPU芯片工厂已有多台EUV生产设备 数量保密

         过去几年中 Intel 在芯片工艺上被认为落后于台积电、三星，一个重要原因就是没有及时跟进 EUV 工艺，让两家对手抢先量产了 7nm 、 5nm 等工艺，不过 Intel 这一年来变化很大，也对 EUV 光刻工艺上心了，加速推进新工艺量产。

         Anandtech 网站的核心编辑日前受邀参观了 Intel 在俄勒冈州的 D1X 工厂， 他表示在那里看到了一些 EUV 生产设备，不过具体有多少就不能说了，显然这是 Intel 的商业机密，不能对外透露。

           1 月底， Intel 宣布了一批 EUV 设备进厂，不过当时进场安装的是欧洲爱尔兰的 Fab 34 晶圆厂，那是一台光刻胶显影设备 (lithography resist track) ，将与 EUV 极紫外扫描仪搭档，首先为硅晶圆覆上精密的涂层，然后进入 EUV 扫描仪，进行曝光，接着晶圆回到光刻设备，再进行一系列的高精密光显影、清理操作。

         爱尔兰的 Fab 34 晶圆厂未来会量产 Intel 4 工艺，也就是之前的 7nm 工艺，这是 Intel 首个使用 EUV 光刻机的工艺， 2023 年的 14 代酷睿 Metor Lake 处理器会首发该工艺。

         不过 Intel 在 EUV 光刻机上的野心很大，重点会放在下一代 EUV 光刻机上， 已经抢先订购了 NA 0.55 高数值孔径 EUV 光刻机，据说成本高达 3 亿美元，约合 19 亿元。

         相比目前 NA 0.33 的 EUV 光刻机， Intel 购买的新一代光刻机可以量产更先进的 CPU 工艺，未来的 20A 、 18A 工艺都会用上，最快 2025 年量产。

　　【来源：快科技】【作者：宪瑞】